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產品名稱:涂鍍層測厚儀

產品型號:CEM華盛昌DT-156

更新時間:2023-12-19

產品特點:CEM華盛昌DT-156涂鍍層測厚儀 可測量涂鍍層: 任何磁性物質表面的非磁性涂鍍層厚度;任何非磁性金屬表面的絕緣涂鍍層厚度

CEM華盛昌DT-156涂鍍層測厚儀的詳細資料:

CEM華盛昌DT-156涂鍍層測厚儀

【產品描述】
DT-156涂鍍層測厚儀探頭可以在電磁感應和渦流兩種原理下工作。在自動模式(AUTO)下,兩種原理可視測量的基體自動轉換,或可通過菜單進行自動模式和非自動模式轉換。

CEM華盛昌DT-156【產品特性】
1、可測量涂鍍層: 任何磁性物質表面的非磁性涂鍍層厚度;任何非磁性金屬表面的絕緣涂鍍層厚度
2、易于操作的菜單設計
3、連續和單次測量方式
4、直接工作模式和組工作模式
5、可統計并顯示:平均值、zui大值、zui小值、標準方差、統計數
6、非常方便的進行一點或兩點校準
7、可保存320個測量數據
8、USB傳輸數據至計算機分析統計
9、實時刪除測量數據和組數據
10、高低限報警
11、低電和錯誤提示可設置的自動關機功能

CEM華盛昌DT-156【技術指標】

傳感器探頭

鐵磁性

非鐵磁性

工作原理

磁感應

渦流

測量范圍 

0~1250um 

0~1250um

 

0~49.21mil

0~49.21mils

誤差

0~850 um (+/- 3%+1um) 

0~850 um(+/- 3%+1.5um)

(相對當前讀數)

850um~1250um (+/- 5%) 

850um~1250 um (+/- 5%)

 

0~33.46 mils (+/- 3%+0.039mils)

0~33.46mils (+/- 3%+0.059mils)

 

33.46um~49.21mils (+/- 5%) 

33.46um~49.21mils (+/- 5%)

精度 

0~50um (0.1um) 

0~50um (0.1um)

 

50um~850um(1um) 

50um~850um(1um)

 

850um~1250um(0.01mm)

850um~1250um(0.01mm)

 

0~1.968mils (0.001mils)

0~1.968mils (0.001mils)

 

1.968mils~33.46mils(0.01mils) 

1.968mils~33.46mils(0.01mils) 

 

33.46mils~49.21mils(0.1mils)

33.46mils~49.21mils(0.1mils)

單位換算:

1、milPCB或晶片布局的長度單位):1 mil =千分之一英寸,1mil = 0.0254mm

2、um有時也做微米(單位)使用,1mm(毫米)=1000um(微米) 1um=1000nm(納米)。

使用方法

1、工作模式:
1-1.AOTO:探頭根據待測物體性質(鐵磁性物質或非鐵磁性金屬)自動轉入相應工作模式。如果待測物體是鐵鎳等磁性金屬物質,探頭將轉入磁感應原理工作模式;如果待測物體時非磁性的金屬物質,探頭將轉入渦流原理工作模式。
1-2.Fe:探頭將是磁感應原理工作模式。
1-3.No-Fe:探頭將是渦流原理工作模式。
2、直接測量(DIR):開機默認為此模式。用于快速隨意測量。在此模式下,測量數據會臨時保存在內存中,可以通過菜單瀏覽所有已存數據和統計值,但一旦關機、系統掉電或從直接測量模式切換到組工作模式,這些數據將會丟失。此模式下,zui多可統計80個數據,超出的讀數將替換zui舊讀數并保存更新統計值。
3、組測量(GR01~GR04):每一組工作模式下,系統可保存zui多80個數據,5個統計值。關機和掉電,所有保存值不會丟失,并且組與組之間相互獨立不受影響,需要刪除保存的值,可通過菜單操作進行。當測量數據超出80個,數據測量可以繼續進行,但是所有數據將不被保存和統計計算。如有需要,可通過菜單刪除組數據。

4、讀數瀏覽:通過“Measurement view”菜單項,瀏覽當前工作組所有測量讀數。
5、測量中的統計數據:厚度統計數據可統計80個讀數(GR01~GR04總共zui多可存儲4*80=320個讀數)。此外,在DIR模式除了讀數不存儲外,其他和GRO模式相同。
NO.:開機以來進行統計的讀數個數
AVG:平均值
Sdev:標準方差
MAX:zui大讀數
MIN:zui小讀數

包裝清單
*1使用說明書 *1合格證 *1電池*2硬盒*1彩盒*1 USB連接線纜*1軟件CD*1探頭*1鋼鐵基體*1鋁塊基體*1標準薄片*2

 

 

 

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